USPM-RU III反射儀可精確測量當(dāng)前分光儀無法測量的微小、薄樣本的光譜反射率,不會與樣本背面的反射光產(chǎn)生干涉。是十分適合測量曲面反射率、鍍膜評價、微小部品的反射率測定系統(tǒng)。
- 消除背面反射光 
 采用特殊光學(xué)系統(tǒng),消除背面反射光。
 不必進(jìn)行背面的防反射處理,可正確測定表面的反射率。
- 可測定微小區(qū)域的反射率 
 用物鏡對焦于樣本表面的微小光斑(?60 μm),可以測定鏡片曲面及鍍膜層是否均勻。
- 測定時間短 
 由于使用了Flat Field Grating(平面光柵)和線傳感器的高速分光測光機(jī)構(gòu),可以進(jìn)行快速、再現(xiàn)性很高的測定。
- 支持XY色度圖、L*a*b*測定 
 可以依據(jù)分光測色法,通過分光反射率測定物體顏色。
- 可以測定高強(qiáng)度鍍膜的膜厚 
 采用干涉光分光法,可以在不接觸、無損的情況下測定被檢物的膜厚(單層膜)。
| 測定波長 | 380 nm~780 nm | 
|---|---|
| 測定方法 | 與參照樣本的比較測定 | 
| 被檢物N.A. | 0.12(使用10×物鏡時) 0.24(使用20×物鏡時) * 與物鏡的N.A.不同。 | 
| 被檢物W.D. | 10.1 mm(使用10×物鏡時) 3.1 mm(使用20×物鏡時) | 
| 被檢物的曲率半徑 | -1R ~-∞、+1R~∞ | 
| 被檢物的測定范圍 | 約?60 μm(使用10×物鏡時) 約?30 μm(使用20×物鏡時) | 
| 測定再現(xiàn)性(2σ) | ±0.1%(380 nm~410 nm測定時) ±0.01%(410 nm~700 nm測定時) | 
| 顯示分辨率 | 1 nm | 
| 測定時間 | 數(shù)秒~十幾秒(因取樣時間而異) | 
| 光源規(guī)格 | 鹵素?zé)簟?2 V 100 W | 
| 載物臺Z方向驅(qū)動范圍 | 85mm | 
| PC接口 | USB方式 | 
| 裝置重量 | 機(jī)身:約20 kg(PC、打印機(jī)除外) 光源用電源:約3 kg 控制器盒:約8 kg | 
| 裝置尺寸 | 機(jī)身: 300(W)×550(D)×570(H) mm 光源用電源: 150(W)×250(D)×140(H) mm 控制器盒: 220(W)×250(D)×140(H) mm | 
| 電源規(guī)格 | 光源用電源: 100 V(2.8 A)/220 V AC 控制器盒: 100V(0.2A)/220V AC | 
| 使用環(huán)境 | 水平且無振動的地方 溫度: 23±5 °C 濕度: 60%以下、無結(jié)露 | 
有任何疑問,請及時與我們溝通!期待您的電鈴!
       電話: 0755-89686581
13265803631/鴻澤





















 第4年
第4年 通過認(rèn)證
 通過認(rèn)證 





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